HOYA에서 2027년 신입을 대상으로 포토마스크 기술직을 채용합니다. 반도체 제조의 핵심인 마스크 브랭크스 및 포토마스크의 공정 개발과 생산 기술 업무를 담당합니다. 세계 시장 점유율 1위 기업에서 최첨단 EUV 기술을 다루며 성장할 수 있습니다. 입사 후 체계적인 OJT와 교육 프로그램을 통해 전문가로 육성합니다. 반도체 산업의 미래를 함께 이끌어갈 인재를 찾습니다.
LSI事業部では、半導体製造に欠かせないガラス製部材マスクブランクス・フォトマスクの研究開発、製造を行っています。マスクブランクスとは、半導体チップを作るための原版となる部材のことです。EUV(極端紫外線)とオプティカル(EUVではない既存の露光技術)の両製品を展開し、汎用品から最先端まで幅広い分野の半導体に対応しています。世界シェアNo.1を誇る業界のリーディングカンパニーとして、半導体メーカーや露光装置メーカー等と協力しながら半導体の進化を牽引しています。
半導体を安定的に供給し続けるために欠かせないのが「マスクブランクス」という精密部材。私たちHOYA株式会社LSI事業部では、このマスクブランクスにおいて世界シェアNo.1を誇っています。
半導体チップを欠陥なく大量に作るためには『型』となる原版が必要となります。ガラス部材である「マスクブランクス」にICチップの回路図を描き(=フォトマスク)、そこにフォトリソグラフィの技術を用いてシリコンウエハに回路図を縮小転写させていくことで半導体チップが製造されています。
※ マスクブランクス:「フォトマスク」のベースとなる部材(IC回路図が描かれる前の状態)
※ フォトマスク:ICチップの型となる原版(IC回路図が描かれた状態)
近年は、AIやハイパフォーマンス・コンピューティング、5Gなどのテクノロジーで使用される最新世代半導体の製造工程で重要なEUV(極端紫外線)マスクブランクスの開発に注力しています。
フォトマスクの製造において、プロセスを分析・改善するための開発を行います。マスクブランクスがフォトマスクの原板となるため、ブランクスSBUと連携し、要素技術の開発を担当していただきます。
新たに開発された製品を量産できる体制にするのが生産技術の仕事です。
それらの開発技術や生産装置の選定・導入をいかに製造工程に落とし込んでいくか、その上で大量かつ高品質を実現していくためのノウハウを技術的に研究し、実現していきます。
入社後2ヶ月は基礎的知識を習得するための研修期間となり、その後1ヶ月の仮配属を経て本配属となります。上司や先輩社員のサポートのもと、OJTをメインに技術を磨いていきます。